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    關于半導體制造工藝使用的掩膜技術開發，英特爾和大日本印刷日前宣布，將把現有的合作關系擴展到32nm工藝（hp45）。具體來說就是，將在EUV（Extreme Ultraviolet，遠紫外）曝光掩膜技術的開發中進行合作。

　　2000年以后，英特爾和大日本印刷在180nm到45nm（hp65）半導體制造工藝的掩膜技術開發中進行了合作。根據此次的決定，在保持現有合作關系的同時，將進一步強化未來的合作。

　　作為現有ArF曝光的下一代技術，在國際半導體技術開發藍圖（ITRS）中十分看好EUV曝光技術。為了實現EUV曝光，英特爾和大日本印刷將通力合作，以便能在適當的時期提供掩膜技術。